平面 XY 交叉滚柱平台

双轴四电机驱动,**的动态性能,分辨率 1nm,重复定位精度 ±100nm,定位精度 ±400nm,在位稳定性 3nm 多种反馈选项。选用交叉滚柱导轨,结构紧凑,低侧面高度,阿贝误差小等特点。适用于激光加工 / 飞拍扫描检测 / 测量检测 / 表面粗糙度检测 / 激光切割等需要纳米级定位精度的工业和科研项目。

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